Princip laserového čištění

Laserové čištění využívá soustředěné laserové záření k odpaření nečistot z vrstvy. Na nečistoty působí ultra-krátké laserové pulsy (μs-ms), které generují teplo a tlak vyvolaný teplem – vysoká teplota uvnitř materiálu vytváří vysoký tlak, který způsobuje jeho odpaření. Laserové čištění je proto velmi šetrné k podkladovému materiálu.

Při laserovém čištění nevzniká téměř žádný odpadní materiál, protože se většina nečistot odpaří, díky vysoké účinnosti použitých laserových rezonátorů má čistící proces velmi nízké provozní náklady. Laserové čištění je nekontaktní, neabrazivní metoda, která je velmi šetrná k povrchu materiálu. Vzhledem k tomu, že průběh interakce laserového záření s materiálem je závislý na materiálu, je možné nastavit parametry čištění tak, aby zůstal podklad po čištění nepoškozený.